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職位詳情
其他要求
學歷要求：博士研究生
需求專業：
該需求專業僅展示一級學科
崗位職責
基于同步輻射EUV干涉光刻及電子束光刻技術，制備多種DRAM的典型圖案（不同的pitch尺寸，不同的透光率等），在不同的薄膜構造驗證EUV光刻膠的穩定性及工藝窗口，開展器件光刻工藝研究。
任職要求
1.博士學歷，物理或光學專業，有電子束光刻經驗者優先；
2.身體健康。
2.身體健康。
競爭力分析
解鎖詳細分析
您與該職位匹配度: ***，已超過了
*** 的競爭者，建議************
您在 ？位置
較低
一般
比較匹配
非常匹配
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